ГлавнаяНаукаИнститут ядерных исследований СО РАН разработал новый источник плазмы

Институт ядерных исследований СО РАН разработал новый источник плазмы

Институт ядерных исследований СО РАН разработал новый источник плазмы-0
Фото: cnews.ru

Российские ученые разрабатывают революционную технологию генерации плазмы для передовых литографических установок. Инновационный подход открывает перспективу превзойти решения мирового лидера – компании ASML.

Достижения в создании стабильной плазмы

Специалисты ИЯФ СО РАН и ИПФ РАН создают уникальный источник экстремального вакуумного ультрафиолетового излучения (ВУФ), критически важный для производства новейших микросхем. Уже получены первые обнадеживающие результаты: квазистационарная сферическая плазма диаметром 1 мм с температурой 5 эВ и плотностью 3,5 × 1017 см-3. Ученые планируют повысить температуру до 10–12 эВ.

Эксперименты проводятся на уникальной новосибирской установке – лазере на свободных электронах (НЛСЭ), единственном в мире, способном генерировать стабильный непрерывный терагерцевый разряд.

Перспективы компактных решений

Россия уверенно движется к созданию собственного производства передового полупроводникового оборудования. Разработанная технология в будущем реализуется в более компактных установках на основе терагерцевых гиротронов ИПФ РАН.

Ксенон против олова: преимущества новой технологии

Микроэлектроника требует источников экстремального ВУФ-излучения (10–30 нм) для миниатюризации чипов. В отличие от распространенного подхода с импульсной плазмой из олова (который использует ASML и другие), российские ученые применяют ксенон и субмиллиметровое излучение.

Ведущий научный сотрудник ИЯФ СО РАН, д.ф.-м.н. Виталий Кубарев объясняет: "Оловянная плазма изначально нестабильна, а разлетающиеся частицы загрязняют дорогостоящую оптику, требуя частой замены. Наше решение на основе ксенона предлагает принципиально иную, более надежную альтернативу".

Сложности мирового производства литографов

Нидерландская ASML доминирует на рынке EUV-литографии (90% в 2024 году). Технологические барьеры оказались столь высоки, что даже США и Япония ограничились ролью поставщиков компонентов.

Китай демонстрирует прогресс: пробное производство EUV-литографов с применением олова планируется запустить в III квартале 2025 года, а массовое – в 2026. Тестирование прототипа ведется в исследовательском центре Huawei в Дунгуане.

Источник: www.cnews.ru

Другие новости

«Черный ящик» для планеты и мистические знаки Тасмании

В ближайшее время в австралийском штате Тасмания построят «черный...

Алкоголизм – хроническое заболевание и пути его лечения

Алкоголизм – это хроническое заболевание, характеризующееся неконтролируемым употреблением алкоголя,...

Управление временем: искусство создания полноценной жизни

В нашем быстро развивающемся мире, где каждый день приносит...

Зачем нам соль? Удивительные факты, о которых вы не знали

Соль часто остаётся незамеченной — просто крупинки в солонке....

10 неправильных представлений в истории питания

История кулинарии полна мифов и заблуждений, которые сохранялись на...